Präzisionsläppen von plättchenkalziniertem Aluminiumoxid für Silizium
PWA ist ein präzise abgestuftes Aluminiumoxid-Schleifpulver vom Typ A, das aus einem plattenförmigen Kristall aus Al2O3 mit einer Reinheit von über 90 % besteht. PWA ist ein Schleifpulver mit einem enormen Einsatzspektrum, das eine Vielzahl von Funktionen erfüllen kann.
- Chemisch inert
- Wird weder durch Säuren noch durch Laugen korrodiert
- Hervorragende hitzebeständige Eigenschaften
- Größere Anzahl einheitlicher Qualitäten als bei den meisten Herstellern erhältlich
Die Partikelgrößenverteilung wird streng kontrolliert und erzeugt eine sehr fein geläppte Oberfläche, die ein breites Anwendungsspektrum ermöglicht, wie zum Beispiel:
- Läppmittel für:
- Silizium
- Optische Materialien
- Flüssigkristall
- Edelstahl
- Andere Materialien
- Füllmaterial für Beschichtungen
- Material zum Läppen von Stoff oder Papier
- Compoundiermittel kombiniert mit einem Metall oder Kunstharz
| Partikelgröße | Partikelverteilung (µm) | Anmerkungen | |||
| Maximale Partikelgröße | Partikelgröße bei d 03 | Partikelgröße bei d 50 | Partikelgröße bei d 94 | ||
| 45 | < 82,9 | 53,4 ± 3,20 | 34,9 ± 2,30 | 22,8 ± 1,80 | Abgesetzt |
| WCA40 | < 77,8 | 41,8 ± 2,80 | 29,7 ± 2,00 | 19,0 ± 1,00 | |
| WCA35 | < 64,0 | 37,6 ± 2,20 | 25,5 ± 1,70 | 16,0 ± 1,00 | |
| WCA30 | < 50,8 | 30,2 ± 2,10 | 20,8 ± 1,50 | 14,5 ± 1,10 | |
| WCA25 | < 40,3 | 26,3 ± 1,90 | 17,4 ± 1,30 | 10,4 ± 0,80 | |
| WCA20 | < 32,0 | 22,5 ± 1,60 | 14,2 ± 1,10 | 9,00 ± 0,80 | |
| WCA15 | < 25,4 | 16,0 ± 1,20 | 10,2 ± 0,80 | 6,30 ± 0,50 | |
| WCA12 | < 20.2 | 12,8 ± 1,00 | 8,20 ± 0,60 | 4,90 ± 0,40 | |
| WCA9 | < 16,0 | 9,70 ± 0,80 | 6,40 ± 0,50 | 3,60 ± 0,30 | |
| WCA5 | < 12,7 | 7,20 ± 0,60 | 4,70 ± 0,40 | 2,80 ± 0,25 | |
| WCA3 | < 10.1 | 5,20 ± 0,40 | 3,10 ± 0,30 | 1,80 ± 0,30 | |
Bei Halbleitermaterialien wie Halbleiter-Siliziumwafern kann die Anwendung von Plattenaluminiumoxid die Schleifzeit verkürzen, die Schleifeffizienz erheblich verbessern, den Verlust der Schleifmaschine reduzieren, Arbeits- und Schleifkosten sparen und die Schleifdurchlaufrate erhöhen. Die Qualität kommt bekannten ausländischen Marken nahe.
Die Arbeitseffizienz des Glaskolbenschleifens der Bildröhre wird um das 3- bis 5-fache erhöht;
Die qualifizierte Produktrate wird um 10-15 % erhöht, und die qualifizierte Produktrate von Halbleiterwafern erreicht mehr als 99 %;
Der Schleifverbrauch ist 40-40 % geringer als bei gewöhnlichem Aluminiumoxid-Polierpulver;
Lieferung chemischer Zusammensetzung (Präzisionsläppen von plättchenkalziniertem Aluminiumoxid für Silizium)
| Al2O3 | ≥99,0 % |
| SiO2 | <0,2 |
| Fe2O3 | <0,1 |
| Na2O | <1 |
Physikalische Eigenschaften
| Material | α-Al2O3 |
| Farbe | Weiss |
| Spezifisches Gewicht | ≥3,9 g/cm3 |
| Mohs’Härte | 9.0 |
Produktanwendungsbereich: (Präzisionsläppen von plättchenkalziniertem Aluminiumoxid für Silizium)
1) Elektronikindustrie: Schleifen und Polieren von monokristallinen Halbleiter-Siliziumwafern, Quarzkristallen, Verbindungshalbleitern (kristallines Gallium, Nanophosphatierung).
2) Glasindustrie: Schleifen und Bearbeiten von Kristallen, Quarzglas, Bildröhrenglasschalen, optischem Glas, Glassubstraten für Flüssigkristallanzeigen (LCD) und Quarzkristallen.
3) Beschichtungsindustrie: Spezialbeschichtungen und Füllstoffe für das Plasmaspritzen.
4) Metall- und keramikverarbeitende Industrie: Präzisionskeramikwerkstoffe, gesinterte Keramikrohstoffe, hochwertige Hochtemperaturbeschichtungen usw.
Verpackung: 10 kg/Beutel, 20 kg/Karton
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